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MDXN-31D4 alta precisão dupla face litografia máquina
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Principais propriedades
Propriedades industriais
Marca
minder-hightech
Outras propriedades
Peso (KG)
150
Garantia
1 ANO
Saída de vídeo-inspeção
Fornecido
Relatório de Ensaio de máquinas
Fornecido
Componentes do núcleo
Motor
Lugar de origem
Guangdong, China
Número do Modelo
MDXN-31D4
Embalagem e entrega
Unidades de Venda:
Item único
Tamanho da embalagem única:
120X150X130 cm
Peso bruto único:
150.000 kg
Tempo de espera
Serviço
Peças de reposição grátisVer detalhes
Descrições do produto pelo fornecedor
Descrição do produto
Este equipamento é usado principalmente para o desenvolvimento e produção de circuitos integrados de pequeno e médio porte, componentes semicondutores e dispositivos de onda acústica de superfície. Devido ao mecanismo de nivelamento avançado e baixa força de nivelamento, esta máquina não é apenas adequada para a exposição de vários tipos de substratos, mas também para a exposição de substratos facilmente fragmentados, como arsenieto de potássio e aço fosfato, bem como a exposição de substratos não circulares e pequenos.
Especificação
Parâmetros técnicos principais
1. tipo de exposição: tipo de contato, alinhamento da placa, dupla face única exposição
2. área de exposição: 110X110mm;
3. uniformidade de exposição: ≥ 97%;
4. intensidade de exposição: 0-30mw/cm2 ajustável;
5. ângulo de feixe UV: ≤ 3 °
6. comprimento de onda central da luz ultravioleta: 365nm;
7. vida útil da fonte de luz UV: ≥ 20000 horas;;
8. temperatura da superfície de trabalho: ≤ 30 °C
9. adotando o obturador eletrônico;
10. resolução de exposição: 1 μ M (profundidade de exposição é cerca de 10 vezes a largura da linha)
11. Modo de exposição: dupla face exposição simultânea
12. Faixa de alinhamento: x: ± 5mm Y: ± 5mm
13. Precisão do alinhamento da placa: 2 μ m
14. Faixa de rotação: ajuste de rotação Q-direção ≤ ± 5 °
15. Sistema microscópico: sistema CCD de campo de visão duplo, lente objetiva 1.6X ~ 10X, sistema de processamento de imagem de computador, monitor LCD de 19 "; Ampliação total 91-570x
16. Tamanho da máscara: Capaz de absorver vácuo 5 "máscaras quadradas, sem requisitos especiais para a espessura da máscara (variando de 1 a 3mm).
17. Tamanho do substrato: Adequado para substratos de 4 ", com espessura do substrato variando de 0,1 a 2mm.
18. Ao fazer o pedido, não há requisitos especiais, e uma prateleira X5 de 5 "é padrão; você pode personalizar as prateleiras abaixo de 5" X5:
2. área de exposição: 110X110mm;
3. uniformidade de exposição: ≥ 97%;
4. intensidade de exposição: 0-30mw/cm2 ajustável;
5. ângulo de feixe UV: ≤ 3 °
6. comprimento de onda central da luz ultravioleta: 365nm;
7. vida útil da fonte de luz UV: ≥ 20000 horas;;
8. temperatura da superfície de trabalho: ≤ 30 °C
9. adotando o obturador eletrônico;
10. resolução de exposição: 1 μ M (profundidade de exposição é cerca de 10 vezes a largura da linha)
11. Modo de exposição: dupla face exposição simultânea
12. Faixa de alinhamento: x: ± 5mm Y: ± 5mm
13. Precisão do alinhamento da placa: 2 μ m
14. Faixa de rotação: ajuste de rotação Q-direção ≤ ± 5 °
15. Sistema microscópico: sistema CCD de campo de visão duplo, lente objetiva 1.6X ~ 10X, sistema de processamento de imagem de computador, monitor LCD de 19 "; Ampliação total 91-570x
16. Tamanho da máscara: Capaz de absorver vácuo 5 "máscaras quadradas, sem requisitos especiais para a espessura da máscara (variando de 1 a 3mm).
17. Tamanho do substrato: Adequado para substratos de 4 ", com espessura do substrato variando de 0,1 a 2mm.
18. Ao fazer o pedido, não há requisitos especiais, e uma prateleira X5 de 5 "é padrão; você pode personalizar as prateleiras abaixo de 5" X5:
Embalagem & entrega
Perfil da empresa
Temos 16 anos de experiência em vendas de equipamentos.
Nós podemos fornecê-lo com One-stop Semiconductor Front-end e Back-end Pacote de equipamentos de linha de solução profissional da China.
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